Napylarki próżniowe i systemy PVD CVD

Napylarki prózniowe i systemy PVD i CVD firmy scia Systems GmbH oparte na technologiach

IBE – Ion Beam Milling  

RIBE – Reactive Ion Beam Etching

CAIBE – Chemicaly Assisted IBE

IBF – Ion Beam Figuring

PECVD – Plasma Enhanced CVD

RIE – Reactive Ion Etching 

Sputtering Etching

ALD – Atomic Layer Deposition

Źródla jonów

Szczegóły techniczne na stronie producenta  

Glosariusz

PLD – Pulsed Laser Deposition – nanoszenie metodą ablacji laserowej (za pomocą lasera impulsowego)
PVD – Physical vapor deposition – fizyczne osadzanie z fazy gazowej
CVD – Chemical Vapor Deposition – chemiczne osadzanie z fazy gazowej
PAPVD – Plasma Assisted PVD – Fizyczne osadzanie wspomagane plazmą
PECVD – Plasma Enhanced CVD
MSD – Magnetron Sputtering Deposition – nanoszenie za pomocą rozpylania magnetronowego
IBE, IBM – Ion Beam Etching, Ion Beam Milling – trawienie jonowe
RIBE – Reactive Ion Beam Etching – reaktywne trawienie wiązką jonów
CAIBE – Chemically Assisted IBE – chemicznie wspomagane trawienie wiązką jonów
RIE – Reactive Ion Etching – reaktywne trawienie jonowe
IBSD – Ion Beam Sputter Deposition – nanoszenie za pomocą rozpylania wiązką jonową
ALD – Atomic Layer Deposition – nanoszenie warstw atomowych
ICP – Inductively Coupled Plasma – plazma sprzężona indukcyjnie
ECR – Electron Cyclotron Resonance – elektronowy rezonans cyklotronowy
MEMS – Micro Electro-Mechanical Systems – urządzenia mikroelektromechaniczne