Napylarki próżniowe i systemy PVD CVD

scia Systems GmbH
Napylarki prózniowe i systemy PVD i CVD firmy scia Systems GmbH oparte na technologiach
IBE – Ion Beam Milling
RIBE – Reactive Ion Beam Etching
CAIBE – Chemicaly Assisted IBE
IBF – Ion Beam Figuring
PECVD – Plasma Enhanced CVD
RIE – Reactive Ion Etching
Sputtering Etching
ALD – Atomic Layer Deposition
Źródla jonów
Szczegóły techniczne na stronie producenta
Glosariusz
PLD – Pulsed Laser Deposition – nanoszenie metodą ablacji laserowej (za pomocą lasera impulsowego)
PVD – Physical vapor deposition – fizyczne osadzanie z fazy gazowej
CVD – Chemical Vapor Deposition – chemiczne osadzanie z fazy gazowej
PAPVD – Plasma Assisted PVD – Fizyczne osadzanie wspomagane plazmą
PECVD – Plasma Enhanced CVD
MSD – Magnetron Sputtering Deposition – nanoszenie za pomocą rozpylania magnetronowego
IBE, IBM – Ion Beam Etching, Ion Beam Milling – trawienie jonowe
RIBE – Reactive Ion Beam Etching – reaktywne trawienie wiązką jonów
CAIBE – Chemically Assisted IBE – chemicznie wspomagane trawienie wiązką jonów
RIE – Reactive Ion Etching – reaktywne trawienie jonowe
IBSD – Ion Beam Sputter Deposition – nanoszenie za pomocą rozpylania wiązką jonową
ALD – Atomic Layer Deposition – nanoszenie warstw atomowych
ICP – Inductively Coupled Plasma – plazma sprzężona indukcyjnie
ECR – Electron Cyclotron Resonance – elektronowy rezonans cyklotronowy
MEMS – Micro Electro-Mechanical Systems – urządzenia mikroelektromechaniczne