System scia Mill 150
scia Systems GmbH – Od skali nano do nieskończoności …
Firma scia Systems GmbH z siedzibą w Chemnitz (Niemcy) projektuje i produkuje najwyższej klasy urządzenia do ultra-precyzyjnej obróbki powierzchni z wykorzystaniem technologii jonowych i plazmowych. Systemy są przeznaczone do napylania, trawienia oraz czyszczenia plazmowego z dokładnością nanometryczną.
scia Systems to synonim perfekcji w skali nano. Od założenia firmy w 2013 roku scia Systems ugruntowała pozycję lidera technologicznego w dziedzinie obróbki cienkowarstwowej. Sprzęt firmy znany jest z niezawodności, elastyczności i wysokiej wydajności, dostosowanej do specyficznych wymagań przemysłu i nauki.
Produkty
scia Systems oferuje szeroką gamę urządzeń do procesów z wiązką jonową i plazmą, które umożliwiają naszym klientom projektowanie nowych i innowacyjnych produktów o unikalnych właściwościach funkcjonalnych. Maszyny produkowane przez scia Systems zostały pomyślnie wdrożone w różnych branżach high-tech na całym świecie, w tym w mikroelektronice, MEMS oraz precyzyjnej optyce.

Główne linie produktów
scia Trim 200
scia Mill 200
scia Coat 200
scia Magna series
scia Eva 200
Obok samodzielnych systemów scia Systems oferuje także indywidualnie dopasowane rozwiązania klastrowe. Dzięki architekturze klastrów opartej na modułowej budowie i elastyczności użytkownik może wybrać konfigurację wielu komór dedykowanych jednemu procesowi dla uzyskania najwyższej wydajności; możliwe są również rozwiązania łączące różne technologie procesowe dla uzyskania maksymalnej wydajności w rozwoju procesów i działalności R&D.
Korzyści:
Indywidualnie dopasowane rozwiązania procesowe
Kompaktowe i modułowe konstrukcje systemów
Najwyższa wydajność przy zachowaniu maksymalnej precyzji
Ciągły rozwój technologii i procesów wewnątrz firmy
Globalna sieć wsparcia technicznego i serwisu
Kluczowe komponenty projektowane i produkowane przez scia Systems
Technologie:
Ion Beam Etching/Milling – Trawienie wiązką jonową
Ion Beam Trimming – Podcinanie wiązką jonową
Ion Beam Sputtering – Napylanie wiązką jonową
Magnetron Sputtering – Napylanie magnetronowe
Electron Beam Evaporation – Napylanie wiązką elektronów
Dry-Cleaning – Sucha obróbka plazmowa
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition PECVD
Reactive Ion Etching RIE
Zapraszamy do kontaktu przez nasz formularz.









