Sputter Process Monitor SPM 220

Sputter process monitor SPM 220 układ złozony z pompowanego roznicowo spektrometru masowego; przeznaczony głownie do analizy najmniejszych zanieczysczeń gazow i mieszanin gazowych w procesach pod ciśnieniem ponizej 2·10e(-2) mbar. Aktualne ciśnienie robocze analizatora określa system dozowania gazow.

OPIS UKŁADU I ZAKRES DOSTAWY

•   Zawor SVV 040 DN 40 CF-F, sterowanie elektropneumatyczne
• spektrometr masowy PrismaPlus™ z analizatorem kwadrupolowym QMA 200M i elektroniką QME 220M
• wygrzewana komora prozniowa UHV z pomiarową głowicą prozniową PKR 251 DN 40 CF
• system pompowy – pompa turbomolekularna HiPace™ 80 DN 63 CF-F i pompa membranowa MVP 020
• opcjonalnie kontroler BRU220 w składzie
• kontroler pompy turbo DCU002
• prozniomierz jednokanałowy TPG 262
• sterownik zaworow do dozowania gazow VCU 220

KONFIGURACJA